自動化電漿系統，專為前段半導體製程設計。它特別適合在晶圓表面處理活化矽表面。其中全自動化可接受包含 300 mm 晶圓的傳輸介面FOUP/Cassette。最大產能為每小時 60 片晶圓。在內部，Atomflo™ 電漿系統會產生均勻、無顆粒、電中性的放電，不會損壞 CMOS 積體電路。氧/氬等離子體可去除有機污染物，而氫/氬等離子體可去除銅、錫和銦中的金屬氧化。STW-100 具有現代半導體工廠所需的所有功能。